ONGREDIENTS - Skin Barrier Moisture Deep Cleanser - Hloubkově čisticí hydratační čisticí gel pro posílení kožní bariéry - 120 ml
Kód: 14782Detailní popis produktu
BENEFITY:
-
Jemně a účinně čistí pleť bez narušení kožní bariéry
-
Pomáhá udržovat optimální hydrataci pokožky
-
Zklidňuje citlivou nebo podrážděnou pleť
-
Podporuje obnovu a ochranu kožní bariéry
-
Zanechává pleť čistou, hebkou a svěží
KLÍČOVÉ INGREDIENCE:
-
Ceramide NP – pomáhá posilovat kožní bariéru a chránit pleť před ztrátou vlhkosti
-
Panthenol – zklidňuje pokožku a podporuje její regeneraci
-
Sodium Hyaluronate (kyselina hyaluronová) – intenzivně hydratuje a pomáhá udržet vlhkost v pleti
-
Centella Asiatica Extract – zklidňuje pleť a podporuje její regeneraci
-
Peptidy – podporují zdravý vzhled pleti a pomáhají zlepšovat její strukturu
POUŽITÍ:
Naneste malé množství čisticího gelu na vlhkou pleť. Jemně masírujte, dokud se nevytvoří pěna, a poté důkladně opláchněte vlažnou vodou. Používejte ráno i večer jako první krok péče o pleť.
VHODNÉ PRO:
Vhodný pro všechny typy pleti, zejména pro suchou, citlivou nebo dehydratovanou pleť, která potřebuje šetrné čištění bez narušení kožní bariéry.
Doplňkové parametry
| Kategorie: | ONGREDIENTS |
|---|---|
| ? SLOŽENÍ: | Water, Glycerin, Myristic Acid, Butylene Glycol, Potassium Hydroxide, Lauric Acid, Palmitic Acid, Stearic Acid, Potassium Cocoyl Glycinate, Cocamidopropyl Betaine, PEG-40 Stearate, Glyceryl Stearate, PEG-100 Stearate, Sodium Methyl Cocoyl Taurate, Sodium Chloride, Sodium Benzoate, Tocopheryl Acetate, Hippophae Rhamnoides Fruit Oil, Disodium EDTA, Polyquaternium-39, PEG-14M, Allantoin, Panthenol, Capric Acid, Capryloyl Salicylic Acid, Glycolic Acid, 1,2-Hexanediol, Ceramide NP, Silica, Centella Asiatica Extract, Centella Asiatica Callus Extracellular Vesicles, Sodium Hyaluronate, Polyglyceryl-10 Laurate, Madecassoside, Caprylyl Glycol, BHT, Asiaticoside, Copper Tripeptide-1, Tripeptide-1, Palmitoyl Tripeptide-1, Palmitoyl Pentapeptide-4, Hexapeptide-11, Hexapeptide-9. |
| MNOŽSTVÍ: | 120 ml |
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.