ENOUGH - Collagen 3X Moisture Nourishing Sheet Mask - Kolagenová hydratační vyživující plátýnková maska - 25 g
Kód: 14770Detailní popis produktu
BENEFITY:
-
Intenzivní hydratace a výživa – hluboce doplňuje pleť o vlhkost a výživné látky.
-
Podpora elasticity a pevnosti pleti – kolagen pomáhá zlepšovat pružnost pokožky.
-
Zjemnění a hladší textura – pleť je jemnější a hebčí na dotek.
-
Zklidnění a regenerace – zklidňující složky pomáhají obnovit rovnováhu pokožky.
-
Okamžité oživení pleti – po použití pleť působí svěže a revitalizovaně.
KLÍČOVÉ INGREDINCE:
-
Kolagenový komplex (např. hydrolyzovaný kolagen a další formy kolagenu) – podporuje hydrataci, pružnost a pevnost pleti.
-
Niacinamid (vitamin B3) – pomáhá sjednocovat tón pleti a zlepšovat jas pleti.
-
Glycerin – přitahuje a zadržuje vlhkost pro dlouhodobý hydratační efekt.
-
Aloe vera extrakt – zklidňuje pokožku a podporuje regeneraci.
-
Extrakty z bylin a rostlin (např. heřmánek, zelený čaj) – antioxidanty, které pomáhají chránit a zklidnit pokožku.
POUŽITÍ:
- Na očištěný obličej naneste plátýnkovou masku
- Masku vyhlaďte tak, aby mezi ní a pokožkou nebyly žádné vzduchové bubliny
- Nechte působit 15-20 minut
- Jemně sejměte a zbytek esence vmasírujte do pokožky
- Neoplachuje se
VHODNÉ PRO:
Tato látková maska je vhodná pro všechny typy pleti, zejména pro ty, které chtějí hydratující a vyživující péči s podporou elasticity a regenerace. Hodí se pro pleť suchou, dehydratovanou, unavenou či mdlou, která potřebuje revitalizaci, hladkost a zdravější vzhled.
PARFEMACE:
Ano.
Doplňkové parametry
| Kategorie: | ENOUGH |
|---|---|
| ? SLOŽENÍ: | Purified Water, Glycerin, Butylene Glycol, Niacinamide, Hydrolyzed Collagen, Soluble Collagen, Collagen Amino Acids, Aloe Barbadensis Leaf Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Betaine, Sodium Hyaluronate, Allantoin, Carbomer, Tromethamine, Disodium EDTA, Phenoxyethanol, Ethylhexylglycerin, Fragrance |
| MNOŽSTVÍ: | 25 g |
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.